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電子廠廢氣處理方(fāng)法——低溫等離子技術

返回列(liè)表 瀏覽:- 發布(bù)日期:2020-08-27 10:21:48【

電子廠涉及到的行業很多,不同行業在工藝上有一定(dìng)差異,產生的廢氣種類也有一定(dìng)的差異,今天就從半(bàn)導(dǎo)體行業入手為大家介紹電子廠廢氣處理。電子廠半導(dǎo)體廢氣的處理主要(yào)針對半導體行業有機廢(fèi)氣和毒性氣體的治理,天天操天天爱综合嚐試使用低溫(wēn)等離子廢氣處理技術(shù)。半導體行業產生的有機廢氣,主要可以分為,半導體製造工藝產生的有機廢(fèi)氣,和半導體封(fēng)裝工藝產生(shēng)的有機廢氣。

電子廠廢氣

1、廠(chǎng)家處理有機廢氣(qì)和毒氣的處理方(fāng)法

現在,半導體製造(zào)過程中排放的含有有機成分的廢氣(voc)通常采(cǎi)用(yòng)直(zhí)接焚(fén)燒、活性炭吸附、生物氧化等方(fāng)法進行(háng)處理。

催化燃燒裝置

2、針對電子廠(chǎng)廢氣處理半導體行業有(yǒu)機廢氣和毒性(xìng)氣體的治(zhì)理,低溫等離子廢氣處理技術的淨化原理是:

將普通的220V/380V交流電通過變(biàn)壓器,變頻器(qì)轉換為高頻高壓的電壓,產(chǎn)生足以擊穿(chuān)氣體的電壓,釋放出高能電子,高能電子破壞有機廢氣中(zhōng)的氣體分(fèn)子之間的(de)化學鍵,斷開這些化學鍵從而產生了各種碳(tàn)原子、氧原子、氫原子、氫氧自由(yóu)基、臭氧等混合體,等離子體中的氧原子和碳原子結合形成二氧化(huà)碳,氧原子和氫原子結合形成水分子,最終產生排放(fàng)到大氣(qì)中的氣體為無(wú)汙染的二(èr)氧化碳(CO2)和水(H2O)。

洗滌塔+低(dī)溫等離子處理方案

3、電子廠廢氣處理低(dī)溫等離子廢氣處理技術具有以下優點:


  • 放電產生的(de)低溫等離子(zǐ)體中,電子能量高,幾乎可以和所(suǒ)有的惡臭氣體分子作用。
  • 反應快,不受氣速限(xiàn)製(zhì)。
  • 采用防腐蝕材料(liào)。
  • 隻需用(yòng)電,操作極為簡單。
  • 設備啟動、停止十(shí)分迅速(sù),隨用隨(suí)開,常溫常(cháng)壓下即能使用。
  • 氣阻小(xiǎo),適用於大風量的廢氣處理。

4、電子廠廢氣處理低溫等離子廢氣處理技(jì)術應用(yòng)領域:集成電路生產企業、分立器件生產(chǎn)企業、光電組件生產(chǎn)企業。


5、半導體企業廢氣排放特征分析

半導體行業(yè)廢氣排放具有排氣量大、排放濃度小的特點。

6、半導體行業有機廢氣和毒氣的來源


  • 半(bàn)導(dǎo)體製造工藝產生的揮發性有機廢(fèi)氣,主要來源於光刻、顯(xiǎn)影、刻蝕及擴散等工序
  • 與半(bàn)導體製造工藝相比,半導(dǎo)體封裝工藝產生的有機廢氣較為簡單,主要為(wéi)晶粒粘貼、封膠後烘烤過程產(chǎn)生的烘烤廢氣(qì)。
  • 含毒氣性廢氣,其來源為化學(xué)氣相沉積、幹蝕刻機、擴散、離子(zǐ)布值(zhí)機及磊晶等製程(chéng)時所產生。主要成分是(shì)磷化氫等(děng)。

電(diàn)子廠廢氣處理半導體(tǐ)低溫等離子技術,在(zài)實際設計中,需要加洗滌塔作為預處理(lǐ)裝置,來攔截粉(fěn)塵和易(yì)溶性的酸堿廢(fèi)氣。今天就為大家介紹到這裏了,如果您想要了(le)解詳細的設計方案,可(kě)以打電話向天天操天天爱综合谘詢:17306171723


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